光学掩摸板精细化制作过程介绍

2019-11-19

  光学掩摸板,也有些人写掩膜板、或者是写成掩模板等等,都是指用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构,它的应用非常广泛。比如像集成电路、显示器等等和电路有关的制作。

  通俗地说,掩模板也有人称为光罩。英文为Mask Reticle,目的是通过掩膜板的图形造成,通过光刻机械,利用掩膜板的透光和遮光的部分,光刻出各种各样我们需要的集成电路、微机系统等。

5555.jpg

  苏州创阔金属的光学掩摸板制作过程严格按照流程进行,争取产品质量一流。

  第一步,我们会根据客户提供的样片,绘制生成设备可以识别的掩膜板版图文件(GDS格式)

  第二步,使用无掩模光刻机读取第一步制作好的版图文件,对带胶的空白掩膜板进行非接触式曝光,照射掩膜板上所需图形区域,使该区域的光刻胶(通常为正胶)发生光化学反应

  第三步,经过显影、定影后,曝光区域的光刻胶溶解脱落,暴露出下面的铬层

  第四步,是最关键的一步,使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀,将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域,而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀,形成不透光区域。这样便在掩膜板上形成透光率不同的平面图形结构。

  更多有关金属掩膜狭缝片等金属蚀刻请关注 http://www.ckmeatl.com/

苏ICP备19024178号技术支持:中云网络