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光刻掩膜板的制造背景技术

2019-11-14

  在集成电路制造领域,光刻技术被用来将图案从包含电路设计信息的光刻掩膜板上转移到晶圆上,其中的光刻掩膜板,也称为光刻版、掩膜板或者光罩,是一种对于曝光光线具有透光性的平板,其上具有对于曝光光线具有遮光性的至少一个几何图形,所述几何图形为设计图形,可实现有选择的遮挡照射到晶片表面光刻胶上的光,并最终在晶圆表面的光刻胶上形成相应的图案。

  随着器件朝向小型化微型化趋势发展,为了增加光刻掩膜板上的设计图形的工艺窗口,增加对焦深度,通常光刻掩膜板上除具有定义设计图形的主图形外,还在主图形的一侧或两侧设计光学辅助线条,所述光学辅助线条为条状图形,并且,所述光学辅助线条不能在晶圆上成像。

  然而,现有技术制造的光刻胶掩膜板的产品良率较低,光刻掩膜板重出的损耗较大。所以更需要有专业的技术来完成补足现有的补足。采用流动性化学气相沉积工艺或旋转涂覆工艺形成所述填充掩膜。

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