光掩膜板的行业发展趋势

2019-10-30

  光掩膜一般也称光罩,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过曝光将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成:基板和不透光材料。作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具,光掩膜是半导体制程中的一环。

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  光掩膜板行业的发展主要受下游平板显示行业、触控行业、半导体行业和电路板行业的影响,与下游终端行业的发展趋势密切相关。

  在光刻掩膜板领域,国内厂商与国外技术存在一定差距。目前,光罩的核心技术主要掌握在日本的HOYA、SKE,韩国的LG Micron、PKL以及我国台湾地区的AIPC等企业手中,由于其对于光掩膜板的关键技术与设备进行了较为严格的封锁,所以导致国内厂商在技术上与国外厂商相比存在一定的差距。

  未来几年我国掩膜板行业将向大尺寸、精细化、全产业链方向发展,因此在需求持续增加的情况下,影响光掩膜行业发展的因素还是技术的研究情况。

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