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掩膜板制造方法和其曝光方法

2019-10-29

  掩膜板及其制造方法和掩膜曝光方法,以减少重新制作 掩膜板的需求,从而降低生产费用,避免生产周期的延长。

  包括衬底基板和成形在所述衬底基 板上的遮光图案,所述遮光图案之外为透光区域,其中:所述遮光图案包括变形图案,所述 变形图案采用磁致伸缩材料或电致伸缩材料制成。

  为实现上述目的,本发明还提供了一种掩膜板的制造方法,包括:

  在衬底基板上采用构图工艺形成变形图案作为遮光图案,所述变形图案采用磁致伸缩材料或电致伸缩材料制成。

  为实现上述目的,本发明还提供了一种掩膜曝光方法,包括:

  当采用掩膜板进行曝光时,在所述掩膜板上施加设定方向和/或设定大小的磁场 或电场,以使所述掩膜板上的变形图案伸缩变形来改变透光区域的形状和/或尺寸。

  由以上技术方案可知,本发明采用电致伸缩材料或磁致伸缩材料的变形图案作为掩模板上遮光图案的技术手段,通过施加电场或磁场可以使变形图案发生形变,从而改变透光区域的形状和尺寸,所以可以减少重新制造掩膜板的需求,降低生产费用,避免延长生产周期。

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