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提高掩膜板临界尺寸均匀度的方法

2019-10-24

  解决现有技术中由掩膜板的制造流程造成的掩膜板临界尺寸均勻度降低的问题。具体包括:

  1、提供用于制作掩膜板的至少两块测试板,将所述至少两块测试板划分成固定值的多个区域,并设定所述每个区域的初始光刻能量,其中,所述固定值选取为使得相邻两个区域能反应出临界尺寸的细微变化;

  2、将所述至少两块测试板按照所述初始光刻能量制作成掩膜板,并测试所述每个区域的临界尺寸;

  3、计算所述每个区域的临界尺寸的平均值,得到初始临界尺寸表;

  4、选取任一区域为基准区域,根据所述初始临界尺寸表计算所述每个区域与所述基准区域的临界尺寸差值,得到初始临界尺寸差值表;

  5、根据所述初始临界尺寸差值表计算初始光刻能量修正表,并修正所述每个区域的初始光刻能量,得到修正后的光刻能量表;

  6、提供用于制作掩膜板的又一块测试板,将所述又一块测试板按照修正后的光刻能量表制作成掩膜板,并测试所述每个区域的临界尺寸,得到临界尺寸表;

  7、根据所述临界尺寸表计算所述每个区域与所述基准区域的临界尺寸差值,得到临界尺寸差值表;

  8、判断所述临界尺寸差值表是否符合工艺要求,如果符合,至此结束,如果不符合,根据所述临界尺寸差值表计算光刻能量修正表,并修正所述每个区域的光刻能量,得到修正后的光刻能量表,所述光刻能量表中的光刻能量必须满足最小光刻能量要求,同时又不能过大而使得光刻边界过于粗糙。所有测试板为形成有金属层和光刻胶层的基板。

  与现有技术相比,本发明提供的提高掩膜板临界尺寸均勻度的方法,通过将掩膜板临界尺寸的差异分布反馈到掩膜板制作过程中的光刻步骤,进而调整光刻步骤的光刻能量分布,达到提高掩膜板临界尺寸均勻度的目的。

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