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光学掩模板制作工艺过程

2019-09-30

  1、绘制生成设备可以识别的掩膜板版图文件(GDS格式)

  2、使用无掩模光刻机读取版图文件,对带胶的空白掩膜板进行非接触式曝光(曝光波长405nm),照射掩膜板上所需图形区域,使该区域的光刻胶(通常为正胶)发生光化学反应

  3、经过显影、定影后,曝光区域的光刻胶溶解脱落,暴露出下面的铬层

  4、使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀,将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域,而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀,形成不透光区域。这样便在掩膜板上形成透光率不同的平面图形结构。

  5、在有必要的情况下,使用湿法或干法方式去除掩膜板上的光刻胶层,并对掩膜板进行清洗。

  其中掩膜板图形数据由用户自行设计并提交,后续加工工艺由工程师完成。由于图形数据准备是掩膜板加工中的关键步骤,要求用户对所提交的版图文件仔细核对,确保图形正确性。以下将对用户较为关心的版图绘制问题作出具体说明。

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